首页 - 科技 > 世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它！

世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它！

发布于：2025-02-26 作者：凹凸曼 阅读：29

ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中。

Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。

Steve Carson还强调，完成同样的工作，新款光刻机可以将曝光次数从3次减少到只需1次，处理步骤也从40多个减少到不足10个，从而大大节省时间和成本。

世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它

Intel曾透露，新光刻机的可靠性是上代的大约两倍，但没有透露具体数据。

ASML EXE:5000光刻机单次曝光的分辨率可以做到8nm，比前代Low-NA光刻机的13.5nm提升了多达40％，晶体管密度也提高了2.9倍。

当然，Low-AN光刻机也能做到8nm的分辨率，但需要两次曝光，无论时间、成本还是良品率都不够划算。

全速率量产的情况下，ASML EXE:5000光刻机每小时可生产400-500块晶圆，而现在只有200块，效率提升100-150％之多。

世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它

Intel将会使用High-NA EUV光刻机生产14A也就是1.4nm级工艺产品，但具体时间和产品未定，有可能在2026年左右量产，或许用于未来的Nova Lake、Razer Lake。

世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它

将在今年下半年量产的Intel 18A 1.8nm工艺，仍旧使用现有的Low-NA EUV光刻机，对应产品包括代号Panther Lake的下代酷睿、代号Clearwater Forest的下代至强。

二者都已经全功能正常运行，并开展了客户测试。

世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它

二维码

扫一扫关注我们

版权声明：本文内容由互联网用户自发贡献，本站不拥有所有权，不承担相关法律责任。如果发现本站有涉嫌抄袭的内容，欢迎发送邮件至 3941001135@qq.com举报，并提供相关证据，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。

上一篇：马斯克曾亲自递钥匙 李想：理想i8发布时目标是超过特斯拉建站量！

下一篇：雷军：小米SU7 Ultra全系标配24K纯金碳纤维车标！

相关文章

客服QQ：3941001135

客服邮箱：3941001135@qq.com

二维码

本站部分文字及图片均来自于网络，如有侵权请及时联系删除处理

Copyright © 2023 本站技术支持0571YP技术支持 苏ICP备2024129037号-1